【讨论】新sw/se/inventor/osd比较

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最近看到新软件如SOLIDWORKS2003sp0，SolidEdge12sp3, inventor6sp1和onespace designer2002+，谈一点感受。  
  
sw在sweep操作中对于扫掠封闭路径中转角半径与扫掠圆截面半径相等时还是出错，因此在这种情况下的sweep还是要分段作。  
  
se的曲面功能大为增强，而且它的连续尺寸线对齐功能比sw要强，sweep在任何情况下都能完成；实时的动态阴影效果也是一个很不错的功能，可惜不能添加光源，也不能将光源与模型的相对位置固定，因此没法进入实用阶段。也没有外挂渲染插件。  
  
iv6实现了将dwg文件直接引入草图环境，可以利用以前的aCAD资源了。autodesk公司发布的将iv格式文件插入3dsmax/viz的程序，我试了一下，不灵，我用的3dsviz4sp1, viz报错后退出。不知各位可有试过？  
另外iv6的阴影功能只是在底面产生阴影，不属于真实阴影效果，没有实用价值。零件草图拉伸到另外的零件曲面表面还是不允许，不如sw/se来的方便。  
  
osd在曲面，实体，真实感渲染，自由方便地修改模型方面都很好，可惜不能写中文，需要另外的中文字库，所以目前也难以进入实用阶段。还有，新的osd2002+有哪位安装成功的？  
  
我主要从事建筑和装修设计，所以一直希望参数化设计软件能够兼顾渲染效果，虽然可以将模型倒入渲染软件，但是作起来很烦，影响工作进度。  
  
抛砖引玉，希望听到各位的高见。  
  
因为涉及多个软件，所以只好借综合讨论区来发表，望斑竹支持。

陈伯雄

陈伯雄

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