请各位高手谈谈＂雷雕＂工艺

镭雕是指激光雕刻，是通过激光束的光能导致表层物质的化学物理变化而刻出痕迹，或者是通过光能烧掉部分物质，显出所需刻蚀的图形、文字；按照雕刻方式不同可以分为点阵雕刻和矢量切割。

点阵雕刻―――酷似高清晰度的点阵打印；激光头左右摆动，每次雕刻出一条由一系列点组成的一条线，然后激光头同时上下移动雕刻出多条线，最后构成整版的图象或文字；其扫描的图形、文字及矢量化图文都可以使用点阵雕刻。

矢量切割与点阵雕刻不同，矢量切割是在图文的外轮廓线上进行。通常采用这种模式在木材、纸张、亚克力等材料上进行穿透切割，也可在多种材料表面进行打标操作！

使用激光雕刻和切割，过程非常简单，如同使用电脑和打印机在纸张上打印；可以在Win98/Win2000/WinXP环境下利用多种图形处理软件，如CorelDraw等进行设计，扫描的图形，矢量化的图文及多种CAD文件都可轻松地“打印”到雕刻机中。唯一的不同之处是，打印将墨粉涂到纸张上，而激光雕刻是将激光射到木制品、亚克粒、塑料板、金属板、石材等几乎所有的材料之上。

[ 本帖最后由 thysz2000 于 2005-12-4 00:52 编辑 ]

一台镭雕机的性能，主要是由其雕刻速度、雕刻强度和光斑大小来决定。

雕刻速度是指激光头移动的速度，通常用IPS（英吋/秒）来表示；高速度带来高的生产效率；速度也可用于控制切割或雕刻的深度，对于特定的激光强度，速度越慢，切割或雕刻的深度就越大。雕刻速度可以通过镭雕机的控制面板来调节，也可以利用计算机的打印驱动程序来调节。在1%到100%的范围内，调整幅度是1%。

雕刻强度越大，切割或雕刻的深度也越深。

光斑大小可以利用不同焦距的透镜进行调节；小光斑的透镜适用于高分辨率的雕刻；大光斑的透镜适用于较低分辨率的雕刻，但对于矢量雕刻它是最佳选择；通常的标准配置是2.0英吋的透镜，其光斑大小处于中间，适用于各种场合。

通常镭雕机可以雕刻下述材料：竹木制品、有机玻璃、金属板、玻璃、石材、水晶、可丽耐、纸张、双色板、氧化铝、皮革、塑料、环氧树脂、聚酯树脂、喷塑金属。

镭雕机的软件系统通常支持WINDOWS平台，中文界面，能兼容AUTOCAD、CORELDRAW、PHOTOSHOP等多种软件的文件格式，如PLT、PCW、DXF、BMP等，同时也能直接使用SHX、TTF字库。通过电脑随意设计图形，操作简便，功率由软件控制，连续可调。

（+1）谢谢参与

[ 本帖最后由 gaojin1974 于 2005-12-4 01:06 编辑 ]

曾经接触过的一种镭雕机型

技术参数：
标刻范围：40mm*40mm~200mm*200mm(可选)
标刻速度：10000mm/s或﹤400标准字符/秒
标刻线宽：0.04mm
标刻深度：1mm(实际上该标刻深度是有使用场合限制的)
激光功率：50W/75W/100W/120W(可选)

[ 本帖最后由 thysz2000 于 2005-12-4 02:12 编辑 ]

相关实例图片




[ 本帖最后由 thysz2000 于 2005-12-4 02:10 编辑 ]

如果有图片就好拉

真是好贴呀,有时间我要我让大家看看SONY的PSP

各位大侠:能否告诉我电铸模的一些基本常识.谢谢!
不好意思,本想发新贴的,一不小心发错地方了,向各位道歉.

[ 本帖最后由 chenyu931017 于 2005-12-5 23:03 编辑 ]

我看过一些讲义, 有说到对于水镀之后的产品, 不能做镭雕, 但对于真空溅镀后的产品
, 却可以. 我猜想是因为水镀的厚度不好控制, 镭雕加工不易, 良率很低, 是吗?
请指教. 谢谢.

原帖由 bestwishes2598 于 2005-12-6 11:02 发表
我看过一些讲义, 有说到对于水镀之后的产品, 不能做镭雕, 但对于真空溅镀后的产品
, 却可以. 我猜想是因为水镀的厚度不好控制, 镭雕加工不易, 良率很低, 是吗?
请指教. 谢谢.

的确存在这种情况；主要是水镀的镀层比较致密，不易雕透；而其厚度则是可以通过在水镀液中的停留处理时间来控制的；水镀的制品可以通过某种工艺安排，也就是在需要做镭雕的部分或区域可以不做水镀，通过镭雕修饰一下边缘和加深一下即可；在这方面，手机按键厂商的经验是非常丰富的！