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[分享] TA-C(非晶钻石薄膜)涂层---硬度比DLC类金刚石膜更高

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发表于 2013-3-6 16:38:53 | 只看该作者 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式

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   广东耐信镀膜科技有限公司成立于2012 年4 月26 日,注册资本1000万元。公司经营范围:研发制造和销售镀膜设备,提供功能性镀膜和装饰性镀膜服务。致力于成为具有自主知识产权、具有国际竞争力的高端镀膜设备生产商和优质镀膜服务提供商。
    本公司专有技术为过滤电弧真空镀膜技术(DCVA),基于该技术,本公司主要产品为自行设计制造的 “耐信牌(NAISENSE)”功能性镀膜机以及为客户提供高端镀膜服务,镀制膜层主要有:Ta-C(非晶金刚钻膜)、CrN(氮化铬)、TiAlSiN(氮化钛铝硅)、CrAlSiN(氮化铬铝硅)、 TiAlCrSiN(氮化钛铝铬硅)。本公司专有技术为过滤电弧真空镀膜技术(DCVA),是指在真空条件下,采用低电压大电流的电弧放电使靶材蒸发,产生出离子、电子溶化颗粒。离子和电子会在过滤腔体的引导下被过滤出去,而大部分颗粒会沉积在腔壁和过滤窗口的入口处。通过调整线圈电流的大小,可以调整电磁场强度,从而能够控制电弧的特性。同时,通过偏心阴极设计、环状靶材设计、新型磁体设计和新型电刷设计等四个方面的技术创新,解决了金属靶材在使用过程中容易产生凹坑,造成电弧熄火,使镀膜工艺无法连续进行的难题,实现了产业化。就过滤电弧真空镀膜技术,本公司拟向国家申请专利保护。为保证产品质量和保持技术的先进性,本公司将致力于新的工艺流程和膜层研究和开发。
    基于过滤电弧真空镀膜技术,本公司主要产品为自行设计和制造的“ 耐信牌(NAISENSE)”功能性镀膜机,该镀膜机具有如下特点:(1)配备有高效的电磁过滤系统,可将离子源产生的等离子体中的宏观粒子和粒子团过滤干净,保证进入真空室沉积粒子离化率高,使得镀膜达到原子级光亮度,实现针孔率极低的纳米级镀膜。(2)配备有气体离子源清洗系统,能有效清除工件表面吸附的气体和污染物,活化表面,并产生较多的表面空穴,从而有效提高膜基结合力。(3)配备有离子扫描装置,能方便地实现大面积镀膜。(4)真空电弧系统远离镀膜室,使工艺成膜温度低于80℃,可对塑料和陶瓷进行镀膜。
地址:广州市开发区科学城广州国际企业孵化器
联系人:黄得伟
电话:15018770055
QQ:1398181031
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