线性阵列
根据方向、距离和复制数量，用户可以使用【线性阵列】创建实例。实例依赖于原始实体，但阵列的实例随着源的改变而改变。 创建线性阵列的操作步骤 步骤1 打开零件Grate（见图5-1） 这个零件包含将被用来阵列的源特征。
步骤2 设定方向1 单击【插入】/【阵列/镜像】/【线性阵列】。选中零件的线性边，单击【反向】 ，或按图5-2所示设定方向。 在【要阵列的特征】选项中选择如图5-2所示的3个特征。 设定【距离】为2.00in，【实例数】为5. 在标签上单击右键弹出其他的阵列命令，如【反向】和【几何体阵列】，如图5-3所示.
步骤3 设定方向2 下拉【方向2】的复选框，选中另一条边线（见图5-4），其设置如图5-5所示。
步骤4 设定可跳过的实例 在【可跳过的实例】复选框的下拉列表中，选中5个中心实例标志。选中的一组被添加到列表中，并显示工具提示，如图5-5所示。 步骤5 完成阵列 单击【确定】完成阵列特征“阵列（线性1）”，如图5-7所示。
步骤6 几何体阵列 从源几何体创建所有实例要耗费大量的时间，使用【几何体阵列】能有效地缩短这一时间，该选项能忽略源的终止条件。只有源和实例的几何体相同或者相似的时候，才能使用几何体阵列。 右键单击线性阵列特征，选择【编辑特征】 ，勾选【几何体阵列】复选框，如图5-8所示。因为盘厚度不变，阵列后的几何体形态一致。
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