编辑填充阵列
编辑填充阵列 您可以随时对填充阵列进行编辑。通过在阵列中选择事例或在路径查找器中选择阵列特征，选择要编辑的填充阵列。
单击文本手柄填充阵列，以对该阵列进行编辑。
此时，您可以对选定的阵列填充进行任意更改，甚至可以更改填充阵列类型。 将特征添加到现有阵列的父特征集 可以添加（或移除）已设置阵列的父特征。 工作流程 步骤 1. 编辑阵列。 步骤 2. 单击命令条上的添加到阵列 按钮。
步骤 3. 选择要添加到父特征或从父特征中移除的特征。 步骤 4. 右键单击（或绿色对勾）进行预览。右键单击（或绿色对勾）以接受。 编辑阵列轮廓 创建填充阵列后，已形成阵列的区域边界即会复制到阵列填充轮廓中。阵列填充轮廓不与原始草图/模型边缘相关联。可以编辑阵列轮廓。 要编辑阵列轮廓，请单击文本手柄编辑轮廓。
进行编辑后，阵列轮廓会发生改变，但是原始草图/模型边并不会发生改变。编辑完成后，阵列将更新为填充更新后的轮廓区域。在“编辑轮廓”模式中，窗口右上部分会显示一个图标  。单击此图标结束编辑。编辑后的阵列轮廓必须产生一个有效的封闭区域。如果轮廓有问题，则会发生错误。如果轮廓不正确，但接受了更新，则填充阵列将被删除。提示: 在路径查找器中，在编辑阵列轮廓时关闭草图区域的显示。如果同时显示阵列轮廓和草图，轮廓阵列的编辑可能令人感到混乱。例如：如果删除阵列轮廓元素，则草图元素的显示将会保留，而删除的元素看起来好像仍在原位。 抑制事例 可以抑制（或隐藏）阵列填充中的事例。 工作流程 步骤 1. 在“填充阵列”命令条上，单击抑制 按钮。
步骤 2. 所有未抑制的事例均将以绿点显示。单击要抑制的事例。抑制的事例以红色圆圈显示。单击一个已抑制的事例，则它会变为未抑制。
步骤 3. 在“抑制”命令条上，单击重置，使所有事例返回到未抑制状态。
步骤 4. 要抑制与区域边界重叠的事例，请在值框 (A) 中输入偏置值。该值是事例和边界之间的垂直距离。负值 (B) 按照偏置值抑制区域边界内的事例。正值 (C) 按照偏置值显示区域边界外的事例。
接触或重叠阵列特征 定义阵列填充排列时，事例将放置在由阵列间距或角度值所指定的每个位置上。但是，如果特征与相邻特征相接触或重叠，则已形成阵列的特征不会放置在该事例处。在下例中，(A) 矩形阵列填充阵列为 10 x 10，且 (B) 已更改为 7 x 7。(B) 中的事例间距导致阵列父级与其他事例相重叠。阵列填充命令确定要在其上放置阵列父级的事例，从而产生阵列结果。
活动：填充阵列 本活动涵盖创建填充阵列特征的步骤。将显示矩形、交错以及径向阵列的示例。活动显示如何编辑现有填充阵列定义，以及如何编辑阵列区域轮廓。
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