构造选定元素的圆形阵列。例如,可以构造一个孔特征,然后使用该孔特征作为阵列的父元素来构造圆形的孔阵列。 注释: 阵列特征在执行同步修改时(如使用方向盘移动面)作为一个集进行操作。如果在一个阵列事例中移动了一个面,则其他所有阵列事例中的所有相应面也将移动。 您可以抑制某些阵列成员以在阵列中定义间隙,从而避开其他特征。 工作流概述 使用下列工作流程构造圆形阵列: 选择您要进行阵列的元素。 启动“圆形阵列”命令。 选择要在其上放置阵列预览的平面。 使用图形窗口中的命令条和动态输入框定义阵列参数。 选择要设置阵列的元素 可选择特征、面和面集作为要设置阵列的父元素。可以在图形窗口或“路径查找器”中选择元素。 启动“圆形阵列”命令 “圆形阵列”命令只有在选定了有效的元素后才可用。 选择用于阵列预览的平面 可以选择任意平的面、参考平面或基本坐标系平面用于阵列预览。在选择平的面时,将显示默认的预览阵列。 在选择阵列平面时,也可以定义圆形阵列的旋转轴。例如,要放置显示的圆形阵列孔,孔所穿过的圆形平面的中心必须合适。在此示例中,使用快速工具条上的“关键点”选项,使将旋转手柄的轴置于圆形模型面的中心点变得简单。 定义阵列参数 可以使用图形窗口中的命令条和动态编辑框定义您所需要的阵列参数。例如,您可以更改事例数量以及是否构造部分或完整圆形阵列。使用命令条上的“圆形/圆弧阵列”选项指定完整或部分圆形阵列。 可以使用以下放置选项来构造圆形阵列: 适合 固定 适合示例 对于“适合”选项和完整的圆形阵列,需要指定事例数量。 如果指定部分圆形阵列,还可以指定该圆弧的扫掠角度和阵列方向。阵列方向控制是按顺时针还是逆时针方向复制阵列事例。通过单击方向箭头指定阵列方向,如下图所示。 固定示例 使用“固定”选项,可指定事例总数、事例间的角度间距和阵列方向。 也可以使用“固定”选项创建完整圆形阵列,其父特征和上一个事例之间的角度间距小于定义的角度间距。例如,阵列数为 8,定义的角度间距为 47°,则介于父特征和上一个事例间的角度间距将是 31°。 抑制阵列事例 可以抑制单个阵列事例或抑制一组阵列事例。可在构造阵列的同时抑制事例,或者可稍后编辑阵列以抑制事例。 抑制单个阵列事例 可使用命令条上的“抑制事例”按钮抑制阵列中的单个事例。在选定阵列特征后,可单击命令条上的“抑制事例”按钮,然后单击事例符号,以指定要抑制的事例。符号能更改大小和颜色以指示对应的事例已被抑制。 也可以拖动光标以栏选任何数量的事例。 还可以使用“抑制事例”按钮来显示被抑制的阵列事例。单击按钮,然后选择要显示的被抑制事例。 使用草图区域或平面抑制事例 也可以使用草图区域或平的面抑制阵列事例。在选定阵列后,可以单击“抑制区域”按钮,然后选择包含要抑制的事例的草图区域。然后,区域中的事例会被抑制,同时显示一个抑制方向箭头。 可以单击方向箭头指定抑制草图区域外的事例。 编辑阵列参数 通过先使用“路径查找器”或“快速拾取”选择阵列,可编辑现有阵列的参数。选择阵列将显示阵列操作手柄。 单击阵列操作手柄后,在图形窗口中将显示“阵列”命令条和阵列动态编辑框。然后您便可以编辑阵列参数、更改阵列放置选项(“适合”或“固定”)、抑制事例等。 删除阵列事例 也可以删除阵列事例。将光标定位在要删除的阵列事例上。在出现省略号时,单击以显示“快速拾取”。然后,可以使用“快速拾取”来选择阵列事例,再按 DELETE 键删除它。 删除阵列事例时,软件实际上是抑制了阵列草图上的对应符号。在处理大型或复杂的模型时,删除(而不是抑制)事例非常有用,这是因为不必编辑特征来抑制事例。要恢复删除的事例,可以编辑阵列特征以便显示抑制的事例。 将新元素添加到现有阵列 在编辑现有阵列时,可使用命令条上的“添加到阵列”按钮将新元素添加到现有阵列。例如,如果将倒斜角特征添加到已阵列化的原始特征,则可以编辑该阵列特征,然后使用命令条上的“添加到阵列”按钮来选择倒斜角并将其添加到阵列。 阵列特征的同步编辑 阵列特征在执行同步修改时(如使用方向盘移动面)作为一个集进行操作。如果在一个阵列事例中移动了一个面,则其他所有阵列事例中的相应面也将移动。 阵列特征的准则 可以在一个操作中对多个元素做阵列。 可以抑制阵列中的个别事例。 可以删除阵列中的个别特征事例。 可以将特征添加到现有阵列。 |